特許

J-GLOBAL ID：200903009180623437

荷電粒子線露光装置

発明者： 山田 篤志 ,  上條 康一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 細江 利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-100894
公開番号（公開出願番号）：特開2000-306799
出願日： 1999年04月08日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：

【要約】【課題】 偏向器において発生する4重収差を低減した荷電粒子線露光装置を提供する。【解決手段】 図示されない照明光学系によりマスク3が照射され、その上のパターンを通過した電子線が2つのレンズ1、2により、ウェハ上に結像され、マスク3上のパターンをウェハ4上に縮小転写する。レンズ1とレンズ2の間には、散乱線をカットするための散乱アパーチャー5が設けられている。C1〜C8、P1〜P4からなる偏向器7の内、少なくとも1つの偏向器の偏向器コイルの見こみ半角とA-Turn値が、当該偏向器によって発生する磁場の3θ成分、5θ成分だけでなく、7θ成分がほとんど発生しないように設定されている。よって、偏向器において発生する4重収差が低減される。

請求項（抜粋）：

マスク又はレチクル上のパターンを感応基板上に転写する方式の荷電粒子線露光装置であって、少なくとも1つの偏向器の偏向器コイルの見こみ半角とAmpere Turn値が、当該偏向器によって発生する磁場の3θ成分、5θ成分だけでなく、7θ成分がほとんど発生しないように設定されていることを特徴とする荷電粒子線露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504

FI (2件)：

H01L 21/30 541 B ,  G03F 7/20 504

Fターム (8件)：

2H097AA03 ,  2H097BA01 ,  5F056AA22 ,  5F056CB16 ,  5F056CC02 ,  5F056EA06 ,  5F056FA03 ,  5F056FA07