フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：後藤幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-321755
公開番号（公開出願番号）：特開2004-155874
出願日： 2002年11月05日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：

【課題】基板密着性、酸脱離性、ドライエッチング耐性のみならず、レジスト溶剤への溶解性、及びアルカリ可溶性のバランスが優れているフォトレジスト用高分子化合物を得る。【解決手段】フォトレジスト用高分子化合物は、ポリマー構造中に、2,6-ジオキサビシクロ[3.3.0]オクタン骨格を有するモノマー単位を含む。該2,6-ジオキサビシクロ[3.3.0]オクタン骨格を有するモノマー単位には、下記式(I)【化1】(式中、Rは水素原子又はメチル基を示す)で表されるモノマー単位が含まれる。前記フォトレジスト用高分子化合物は、2,6-ジオキサビシクロ[3.3.0]オクタン骨格を有するモノマー単位と、基板密着性基を有するモノマー単位と、酸脱離性基を有するモノマー単位とからなっていてもよい。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ポリマー構造中に、2,6-ジオキサビシクロ[3.3.0]オクタン骨格を有するモノマー単位を含むフォトレジスト用高分子化合物。

IPC (3件)：

C08F20/28 , G03F7/039 , H01L21/027

FI (3件)：

C08F20/28 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (30件)：

2H025AA01 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB45 , 2H025FA17 , 4J100AF10P , 4J100AG08P , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AM21P , 4J100BA03R , 4J100BA20R , 4J100BC09R , 4J100BC53Q , 4J100BC53R , 4J100BC58P , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100FA19 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (1件)

コレステリック性液晶組成物、配向フィルムおよび多色反射板
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-147230 出願人：日東電工株式会社

審査官引用 (1件)

コレステリック性液晶組成物、配向フィルムおよび多色反射板
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-147230 出願人：日東電工株式会社

前のページに戻る