特許
J-GLOBAL ID：200903009188202538
光学収差の測定用マスク及び光学収差の測定方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-063311
公開番号（公開出願番号）：特開2001-250769
出願日： 2000年03月03日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
要約：
【要約】【課題】 光学収差の測定に必要とされる測定用パターンのベストフォーカス位置の測定を自動化し、光学収差を迅速かつ正確に測定することを可能にした光学収差の測定用マスクと測定方法を提供する。【解決手段】 光学収差を測定する光学系により測定用マスクM上の測定用パターンP1を測定用ウェハに露光し、得られたフォトレジストパターンから当該光学系での前記測定用パターンのベストフォーカス位置を測定し、その測定されたベストフォーカス位置に基づいて前記光学系の光学収差を測定する方法において、前記測定用パターンP1は、所要のピッチで配列される複数本のラインL1〜L7で構成されるライン部PL2を含んで構成され、かつ複数本のラインL1〜L7は一方から他方に向けて当該ライン幅が順次大きくなるように構成される。ベストフォーカス位置はライン部PL2に対応するフォトレジストパターンのライン幅をパターン認識装置等によって測定して得ることができ、ベストフォーカス位置の自動測定が可能になり、光学収差を迅速かつ正確に行うことが可能になる。
請求項（抜粋）：
光学収差を測定する光学系により測定用マスク上の測定用パターンを露光し、当該露光により得られたパターン像から当該光学系のベストフォーカス位置を測定し、その測定されたベストフォーカス位置に基づいて前記光学系の光学収差を測定するための測定用マスクであって、前記測定用パターンは、所要のピッチで配列される複数本のラインで構成されるライン部を含んで構成され、かつ前記複数本のラインは一方から他方に向けて当該ライン幅が順次大きくなるように構成されていることを特徴とする光学収差の測定用マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 P
, H01L 21/30 516 A
2H095BE05
, 2H095BE08
, 5F046AA11
, 5F046AA25
, 5F046BA03
, 5F046CB17
, 5F046CC01
, 5F046CC03
, 5F046CC05
, 5F046DA13
, 5F046DA14
, 5F046DB14
, 5F046DD03
