特許

J-GLOBAL ID：200903009197987246

ポジ型レジスト組成物

発明者： 佐々木 知也 ,  水谷 一良 ,  漢那 慎一
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-264489
公開番号（公開出願番号）：特開2004-101934
出願日： 2002年09月10日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：

【課題】160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ高感度、高コントラストで塗布性に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】側鎖に、酸分解性基またはアルカリ可溶性基を有し、少なくともひとつのフッ素原子を有する基を有する繰り返し単位を少なくともひとつ以上有する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(Z)で表される基を側鎖に有する繰り返し単位を少なくとも1つ以上有する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F7/039 ,  C08F12/04 ,  C08F20/10 ,  C08F32/00 ,  H01L21/027

FI (5件)：

G03F7/039 601 ,  C08F12/04 ,  C08F20/10 ,  C08F32/00 ,  H01L21/30 502R

Fターム (43件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07R ,  4J100AL08Q ,  4J100AR11P ,  4J100AR21P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA04R ,  4J100BA12P ,  4J100BA12Q ,  4J100BA12R ,  4J100BA16P ,  4J100BA16Q ,  4J100BA16R ,  4J100BA34P ,  4J100BA34Q ,  4J100BA34R ,  4J100BA50P ,  4J100BA50Q ,  4J100BA50R ,  4J100BA59P ,  4J100BA59Q ,  4J100BA59R ,  4J100BB07P ,  4J100BB07Q ,  4J100BB07R ,  4J100JA38