特許

J-GLOBAL ID：200903009205745028

光投影露光方法

発明者： 中川 健二 ,  田口 眞男 ,  田中 裕之
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 青木 朗 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-141755
公開番号（公開出願番号）：特開平5-335214
出願日： 1992年06月02日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：

【要約】【目的】 半導体装置の製造などでの微細加工におけるフォトリソグラフィでの光投影露光方法に関し、デバイスパターン(フォトマスクパターン)に最適な変形照明方式で投影露光する方法を提供する。【構成】 変形照明系、フォトマスク4、投影レンズからなる露光装置を用いて、該フォトマスクのパターンを基板6上のレジストに投影露光する方法において、変形照明光源に、光軸を点対称軸とした4つ要素32を有する変形照明33を用いて、フォトマスク4のパターンのライン方向に応じて、4つ要素32のうちで、最短距離にある2つの要素を結ぶ線が、パターンのライン方向と平行ないし垂直であるように、変形照明33を回転配置するように構成する。

請求項（抜粋）：

変形照明系、フォトマスク、投影レンズからなる露光装置を用いて、該フォトマスクのパターンを基板上のレジストに投影露光する方法において、前記変形照明系の光源に、光軸を点対称軸とした4つ要素(32)を有する変形照明(33)を用いて、前記フォトマスク(4)のパターンのライン方向に応じて、該変形照明(33)を回転させて露光を行うことを特徴とする光投影露光方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521 ,  G02B 26/00

FI (2件)：

H01L 21/30 311 S ,  H01L 21/30 311 L

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-268715