特許
J-GLOBAL ID：200903009218625773
露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-240659
公開番号（公開出願番号）：特開平6-089844
出願日： 1992年09月09日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：
【要約】【目的】 焼成に伴う収縮性(収縮率)に起因する寸法精度の誤差を考慮して、パターンマスクの被露光体面に対する投影倍率を任意に選択・設定し得る機能付き反射投影型の露光装置の提供を目的とする。【構成】 所定のパターンマスク8面を照射する露光源9と、前記パターンマスク8を透過した光束の倍率を変換する光束倍率変換用レンズ群10と、前記光束倍率変換用レンズ群10中のいずれかの光束倍率変換用レンズ10a,10b,...で所定の光束倍率に変換された透過光束を凹面鏡11に導光する第1の光路変換用ミラー12と、前記凹面鏡11に対向して配置され、かつ凹面鏡11で反射された光を再び凹面鏡11に反射する凸面鏡13と、前記凸面鏡13で反射され、さらに凹面鏡11による再反射光を被露光体14面に導光する第2の光路変換用ミラー15とを具備して成ることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
所定のパターンマスク面を照射する光源と、前記パターンマスクを透過したパターン光束の倍率を変換する光束倍率変換用レンズ群と、前記光束倍率変換用レンズ群中のいずれかのパターン光束倍率変換用レンズで所定の光束倍率に変換された透過パターン光束を凹面鏡面に導光する第1の光路変換用ミラーと、前記凹面鏡に対向して配置され、かつ凹面鏡で反射された光を再び凹面鏡に反射する凸面鏡と、前記凸面鏡で反射され、さらに凹面鏡による再反射光を被露光体面に導光する第2の光路変換用ミラーとを具備して成ることを特徴とする露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G02B 17/00
, G03F 7/207
, H05K 3/00
