特許
J-GLOBAL ID：200903009226761104
露光方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1999006319
公開番号（公開出願番号）：WO2000-030163
出願日： 1999年11月12日
公開日（公表日）： 2000年05月25日
要約：
【要約】スループットをあまり低下させることなく、露光中にも高精度に投影光学系の像面に対する露光対象の基板の表面のデフォーカス量を検出して、オートフォーカス方式で合焦を行う露光方法である。照明スリット部(54a)〜光学部材(63a)を含む第1の斜入射方式のAFセンサと、照明スリット部(54b)〜光学部材(63b)を含む第2の斜入射方式のAFセンサとを用いて、それらのAFセンサで共通の計測点にスリット像(F1f,F2f)を照射してそれぞれフォーカス位置の計測を行う。2つの計測値の差分の1/2を計測値のドリフトとみなして、それらのAFセンサの計測値に関してそのドリフトの補正を行う。その後、その第1又は第2のAFセンサを用いてオートフォーカス方式で合焦を行う。
請求項（抜粋）：
マスクのパターンの像を投影光学系を介して基板ステージ上の基板上に投影する露光方法において、 前記投影光学系の物体面側、又は像面側の被検面上の第1組の複数の計測点にそれぞれ前記投影光学系の光軸に対して斜めに検出用の光束を照射することによって、該複数の計測点における前記光軸方向の位置であるフォーカス位置を個別に検出する第1のフォーカス位置検出系と、 前記被検面の第2組の複数の計測点にそれぞれ前記光軸に対して斜めに検出用の光束を照射することによって、該複数の計測点におけるフォーカス位置を個別に検出する第2のフォーカス位置検出系と、を用い、 前記第1組の複数の計測点と前記第2組の複数の計測点とは実質的に互いに少なくとも一部の計測点を共有しており、 前記第1及び第2のフォーカス位置検出系を用いてそれぞれ前記共有されている計測点でフォーカス位置を検出し、 該検出結果に基づいて前記第1及び第2のフォーカス位置検出系の検出結果のキャリブレーションを行い、 前記第1又は第2のフォーカス位置検出系の少なくとも一方の検出結果を用いて前記基板の表面の前記投影光学系の像面に対する合焦を行うことを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 526 B
, G03F 7/207 H
