特許
J-GLOBAL ID:200903009227872120
有機電界発光表示装置の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石田 敬 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-223014
公開番号(公開出願番号):特開2002-110350
出願日: 2001年07月24日
公開日(公表日): 2002年04月12日
要約:
【要約】【課題】 有機電界発光表示装置の製法を改良すること。【解決手段】 ディスプレイ基板上にアレイ状画素が配置されている有機電界発光表示装置の製造方法であって、ディスプレイ基板上にアレイ状の第一電極を設け、パターン化されていない供与体転写基板と、供与体転写基板上のレーザー光吸収層と、レーザー光吸収層上の有機発光層とを用意し、供与体転写基板を、アレイ状第一電極のパターンを有するディスプレイ基板に対して、転写関係を有するように配置し、十分な出力と所望のスポットサイズを有するレーザービームを供与体基板上のレーザー光吸収層に集中させ且つ走査することにより、供与体基板から有機発光層の特定部分を第一電極に電気的に接続されているディスプレイ基板上の画素に対応する指定領域へ転写させ、そしてディスプレイ基板上の転写された有機発光部分の上に第二電極を設けることを特徴とする方法。
請求項(抜粋):
ディスプレイ基板上にアレイ状画素が配置されている有機電界発光表示装置の製造方法であって、a)ディスプレイ基板上にアレイ状の第一電極を設け、b)パターン化されていない供与体転写基板と、当該供与体転写基板上のレーザー光吸収層と、当該レーザー光吸収層上の有機発光層とを用意し、c)当該供与体転写基板を、アレイ状第一電極のパターンを有するディスプレイ基板に対して、転写関係を有するように配置し、d)十分な出力と所望のスポットサイズを有するレーザービームを供与体基板上のレーザー光吸収層に集中させ且つ走査することにより、当該供与体基板から有機発光層の特定部分を当該第一電極に電気的に接続されているディスプレイ基板上の画素に対応する指定領域へ転写させ、そしてe)当該ディスプレイ基板上の転写された有機発光部分の上に第二電極を設けることを特徴とする方法。
IPC (5件):
H05B 33/10
, G09F 9/00 342
, G09F 9/30 365
, H05B 33/12
, H05B 33/14
FI (5件):
H05B 33/10
, G09F 9/00 342 Z
, G09F 9/30 365 Z
, H05B 33/12 B
, H05B 33/14 A
Fターム (30件):
3K007AB04
, 3K007AB18
, 3K007CA01
, 3K007CB01
, 3K007DA01
, 3K007DB03
, 3K007DC00
, 3K007EB00
, 3K007FA01
, 5C094AA05
, 5C094AA08
, 5C094AA43
, 5C094AA44
, 5C094BA12
, 5C094BA27
, 5C094CA19
, 5C094CA24
, 5C094DA13
, 5C094DB04
, 5C094EA04
, 5C094EB02
, 5C094FA01
, 5C094FB01
, 5C094FB20
, 5C094GB10
, 5G435AA17
, 5G435BB05
, 5G435CC12
, 5G435KK05
, 5G435KK10
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