特許
J-GLOBAL ID：200903009230254179
ポリスルホン複合多孔質膜およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-353756
公開番号（公開出願番号）：特開平11-179176
出願日： 1997年12月22日
公開日（公表日）： 1999年07月06日
要約：
【要約】【課題】 ポリスルホン多孔質膜本来の透過性能と分離性能とを大きく低下させることなく、耐汚染性を改善したポリスルホン複合多孔質膜を提供する。【解決手段】 ポリビニルブチラールのような親水性の有機重合体であって、これを塗布するポリスルホン多孔質膜の分画分子量よりも小さい分子量を有する重合体の0.05〜2重量%溶液を、ポリスルホン多孔質膜に塗布し、その後に加熱して乾燥させ、細孔表面に親水性の有機重合体が付着保持され、pH6における表面ゼータ電位が-20mV以上であるポリスルホン複合多孔質膜とする。
請求項（抜粋）：
ポリスルホン多孔質膜の細孔表面に親水性の有機重合体が付着保持され、かつpH6における表面ゼータ電位が-20mV以上であることを特徴とするポリスルホン複合多孔質膜。
IPC (3件)：
B01D 71/68
, B01D 69/12
, B01D 71/38
B01D 71/68
, B01D 69/12
, B01D 71/38
