特許

J-GLOBAL ID：200903009237637740

電子ビーム描画方法

発明者： 安藤 公明 ,  高橋 弘之 ,  太田 洋也 ,  松坂 尚
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-005455
公開番号（公開出願番号）：特開平8-195339
出願日： 1995年01月18日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】【目的】電流密度や電子ビーム強度が変動しても、エッジラフネス(エッジ部分の凹凸)の生じないスポットビーム(丸ビーム)を用いた電子ビーム描画装置を提供する。【構成】電子ビーム描画装置で、図形処理回路に、輪郭分解301を設け、輪郭図形101と内部図形102に分割し、輪郭部分はショットピッチを細かくし、内部の図形はショットピッチを粗くして描画する。【効果】エッジ部分の凹凸がなくなり、描画の速度を低下させることなく微細パターンの描画が可能になる。また、電流密度が変動した場合にも、輪郭部分を多重描画することによって、エッジラフネス(凹凸)を生じさせることなく描画できる。

請求項（抜粋）：

一定のピッチで階段状に変化する走査信号により電子ビームを走査し、試料にパターンを描画する電子ビーム描画方法において、描画パターンの輪郭部分を一定の幅で抽出する処理と、図形の輪郭部分と内部とで電子ビームを走査するピッチまたは速度を変化させる処理とを設け、前記輪郭部分を描画するときは、細かいピッチで電子ビームを走査し、内部を描画するときは、大きなピッチで電子ビームを走査して、図形を描画することを特徴とする電子ビーム描画方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 541 J ,  H01L 21/30 541 M ,  H01L 21/30 541 E