特許
J-GLOBAL ID：200903009256163287
乾燥方法及び乾燥装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下田 容一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-020438
公開番号（公開出願番号）：特開平7-230979
出願日： 1994年02月17日
公開日（公表日）： 1995年08月29日
要約：
【要約】【目的】 ガラス基板等の洗浄後の乾燥を効率的に行う。【構成】 ガラス基板Wを乾燥装置20のケース21内のチャック26上にセットし、スピンナー25によってガラス基板Wを1700rpmで回転させつつガラス基板W表面にノズル33から噴出する窒素ガス等の乾燥ガスを真上から流下させ、ガラス基板W表面に沿って乾燥ガスを流して洗浄水を蒸発させ、下方の排出口34から排出する。
請求項（抜粋）：
ガラス基板や半導体ウェーハ等の板状被処理物の表面に乾燥ガスを流下させ、板状被処理物の表面に沿って乾燥ガスを流し、下方から排出するようにしたことを特徴とする乾燥方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 361
, H01L 21/304
