特許
J-GLOBAL ID：200903009280098976
光アッシング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
渡部 敏彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-045771
公開番号（公開出願番号）：特開平6-188227
出願日： 1991年02月18日
公開日（公表日）： 1994年07月08日
要約：
【要約】【目的】 比較的低い温度で高いアッシング速度を得ることができる光アッシング装置を提供する。【構成】 真空チャンバ2内に、凹面状の内周面を有するリングのカソード3と、試料1を保持する保持台6とが設けられている。真空チャンバ2には酸素(又はオゾン)が導入・排出され、真空状態に近い低圧に保持される。カソード3には真空チャンバ2に対して負電圧が印加される。【作用】 カソード3の内側に円板状の電子ビーム放電12が発生し、この放電から紫外光が放射され、試料1に直接照射される。紫外光によって生成されるラジカル酸素と試料1上の有機物とが反応し、有機物が除去される。
請求項（抜粋）：
表面に有機物が付着した試料を酸素又はオゾン雰囲気中に置き、前記試料に紫外線を照射することによって前記有機物を除去する光アッシング装置であって、酸素又はオゾンの少なくとも一方を真空状態に近い低圧に保持しつつ導入及び排気が可能な気密性のある処理室と、該処理室内に設けられ、該処理室に対して負電圧が印加され、凹面状の内周面を有するリング状のカソードと、前記処理室内の、前記カソードの軸方向に対向する位置に前記試料を保持する保持手段とを有することを特徴とする光アッシング装置。
IPC (3件)：
H01L 21/302
, H01L 21/027
, H01L 21/304 341
