定盤及び研磨パッドの表面形状測定装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：澁谷孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-222452
公開番号（公開出願番号）：特開平8-061949
出願日： 1994年08月24日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：

【要約】【目的】ポリシング研磨装置の定盤及び定盤に貼られた研磨パッドの表面形状を同時に測定する表面形状測定装置を提供する。【構成】研磨パッド3が貼り付けられた定盤1を備えたポリシング装置の研磨パッド及び定盤の表面形状を測定する装置15において、研磨パッド3から離間して研磨パッド3までの距離を測定するレーザ変位センサ8と、研磨パッド3から離間して定盤1までの距離を測定する渦電流変位センサ9がスライダ7に固定されている。スライダ7をレール4に沿ってステッピングモータで駆動して真直に移動させることにより、レーザ変位センサ8は研磨パッド表面を、渦電流センサ9は定盤1の表面を一直線に走査する。これによって、定盤1に研磨パッド3を貼り付けた状態で定盤1と研磨パッド3の平面度を同時に測定することができる。

請求項（抜粋）：

研磨パッドが貼り付けられた定盤を備えたポリッシング装置の研磨パッド及び定盤の表面形状を測定する定盤及び研磨パッドの表面形状測定装置において、研磨パッド面から離間して研磨パッド面までの距離を測定する第1の測定手段と、前記研磨パッド面から離間して定盤面までの距離を測定する第2の測定手段と、前記第1の測定手段と前記第2の測定手段とを前記定盤面に平行な平面内で真直に移動させる移動手段とを備え、前記研磨パッド及び定盤の表面形状を同時に測定することを特徴とする定盤及び研磨パッドの表面形状測定装置。

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-257630
特開平1-136009
特開平2-257630

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