特許
J-GLOBAL ID：200903009300567536
面位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-051404
公開番号（公開出願番号）：特開平11-233432
出願日： 1998年02月17日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：
【要約】【課題】 ウェハー面の位置を高精度に検出し、レチクル面上のパターンを投影光学系によりウェハー面上に高い光学性能を有して投影することのできる面位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 レチクル面上のパターンを所定面上に投影する投影光学系の結像面近傍に物体面を設け、該物体面に投影系により計測用パターンを投影し、該物体面に形成した該計測用パターンの像を再結像系により受光器面上に再結像し、該受光器からの信号を利用して演算回路により該物体面の光軸方向の面位置情報を検出する際、入力手段から予め入力されているレチクル設計情報を基に該物体面上の計測位置を決定し、面位置情報を検出していること。
請求項（抜粋）：
レチクル面上のパターンを所定面上に投影する投影光学系の結像面近傍に物体面を設け、該物体面に投影系により計測用パターンを投影し、該物体面に形成した該計測用パターンの像を再結像系により受光器面上に再結像し、該受光器からの信号を利用して演算回路により該物体面の光軸方向の面位置情報を検出する際、入力手段から予め入力されているレチクル設計情報を基に該物体面上の計測位置を決定し、面位置情報を検出していることを特徴とする面位置検出装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L 21/30 526 B
, G03F 7/207 H
, H01L 21/30 518
, H01L 21/30 525 W
