特許
J-GLOBAL ID:200903009301588260

2,4,6,8,10,12-ヘキサニトロ-2,4,6,8,10,12-ヘキサアザテトラシクロ[5.5.0.05,9.03,11]-ドデカンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 社本 一夫 (外5名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-602237
公開番号(公開出願番号):特表2002-538160
出願日: 2000年02月15日
公開日(公表日): 2002年11月12日
要約:
【要約】本方法において、2,6,8,12-テトラアセチル-2,4,6,8,10,12-ヘキサアザテトラシクロ[5.5.0.05,9.03,11]-ドデカン(TADH)が混合酸の存在下ニトロリシスされてHNIWを形成する。混合酸は1種以上のニトロニウムイオン源(好ましくは硝酸)と該イオン源からニトロニウムイオンを発生させるための1種以上の強酸(好ましくは硫酸)を含む。該処理行程が約85°Cの温度で実施されたときに、HNIWの形成が10分以内に少なくとも99%のニトラミンへの転化を達成するように、ニトロニウムイオン源の強酸に対する体積比が選択される、
請求項(抜粋):
2,6,8,12-テトラアセチル-2,4,6,8,10,12-ヘキサアザテトラシクロ[5.5.0.05,9.03,11]-ドデカン(TADH)のニトロリシスによって2,4,6,8,10,12-ヘキサニトロ-2,4,6,8,10,12-ヘキサアザテトラシクロ[5.5.0.05,9.03,11]-ドデカン(HNIW)を形成する方法であって、該方法が、 TADHを、1種以上のニトロニウムイオン源と該イオン源からニトロニウムイオンを発生させるための1種以上の強酸を含む混合酸で処理すること、並びにHNIWを形成することを含み、該ニトロニウムイオン源及び強酸が約7:3の体積比で存在する、前記の方法。
Fターム (1件):
4C050PA20

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