特許
J-GLOBAL ID：200903009308458302
半導体製造装置の調整方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
菊池 弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-045450
公開番号（公開出願番号）：特開平5-047893
出願日： 1991年02月19日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：
【要約】【目的】 半導体製造装置で半導体デバイスをロット処理する際に、装置の特性劣化等に係わらず所定の処理結果を得るための処理条件の決定を正確かつ容易とする。【構成】 ロット処理する際に、該処理ロットと同一品種、同一工程、同一号機の最新数ロットの本ロット処理条件平均値と本ロット処理結果平均値から今回の処理条件を決定する。
請求項（抜粋）：
半導体製造装置で半導体デバイスをロット処理する際に、該処理ロットと同一品種、同一工程、同一号機の最新数ロットの本ロット処理条件平均値と本ロット処理結果平均値を得、それらから今回のロット処理における処理条件を決定するようにした半導体製造装置の調整方法。
IPC (2件)：
前のページに戻る
