特許

J-GLOBAL ID：200903009321588886

位置管理方法及び位置合わせ方法

発明者： 木田 佳己 ,  奥村 正彦
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-100952
公開番号（公開出願番号）：特開平10-050604
出願日： 1997年04月03日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：

【要約】【課題】 マスクの位置を高精度に管理することができる管理方法を提供する。【解決手段】 マスク干渉計14x 、14y1、14y2の座標計測値X,YL,YRとマスクステージの位置・姿勢(OX,OY,θ)との関係式、及びマスクステージの位置・姿勢とマスクRの位置・姿勢(BX,BY,ω)との関係式とを用いて、干渉計の計測値X,YL,YRに基づいてマスクRの位置を管理する。これによれば、干渉計の計測値X,YL,YRに基づいてマスクRの位置を管理することができるので、マスクステージ11を大きく回転させてもこのときの干渉計の計測値X,YL,YRに基づいてマスクRの位置を高精度に管理することが可能となる。従って、マスクステージ11の回転量が大きくてもアライメント精度は低下しない。

請求項（抜粋）：

マスク干渉計によりその2次元面内の位置、姿勢が管理されたマスクステージを備えた露光装置に用いられる、前記マスクステージに搭載されるマスクの位置管理方法であって、前記マスク干渉計の座標計測値と前記マスクステージの位置・姿勢との関係式、及び前記マスクステージの位置・姿勢と前記マスクの位置・姿勢との関係式とを用いて、前記マスク干渉計の計測値に基づいて前記マスクの位置を管理する位置管理方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

FI (6件)：

H01L 21/30 515 F ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 522 A ,  H01L 21/30 525 L ,  H01L 21/30 525 N ,  H01L 21/30 525 C

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭62-150721