特許
J-GLOBAL ID：200903009328739480
走査型露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-057088
公開番号（公開出願番号）：特開平7-273000
出願日： 1994年03月28日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：
【要約】【目的】 プレートのみならずマスクの平面度等が悪い場合、又はマスクの送り精度が悪い場合でも、正確に合焦して走査露光方式で露光を行う。【構成】 マスク4上の照明領域22B,22E内のパターンを等倍で正立正像を投影する投影光学系23B,23Eを介してプレート8上の露光フィールド29B,29E上に露光する。走査ステージ6を介してマスク4及びプレート8を一体的にX方向に移動させて露光を行う際に、焦点位置検出系26D,28Dを介してマスク4とプレート8との間隔を先読みし、この結果に基づいてZレベリングステージ7を介してプレート8のZ方向の位置、及び傾斜角を調整する。
請求項（抜粋）：
マスク上の所定形状の照明領域内のパターンを実質的に等倍の投影光学系を介して感光基板上に投影し、前記照明領域に対して前記マスクを走査するのと同期して前記照明領域と共役な露光領域に対して前記感光基板を走査することにより、前記マスク上のパターンを逐次前記感光基板上に露光する走査型露光装置において、前記マスク上で該マスクの走査方向に交差する方向に配列された複数の計測点と、該複数の計測点と前記投影光学系に関して共役な前記感光基板上の複数の計測点との間隔を検出する間隔検出手段と、前記マスク及び前記感光基板の走査中に前記マスク及び前記感光基板の内の少なくとも一方の前記投影光学系の光軸方向の位置及び傾斜角を調整する調整手段と、前記間隔検出手段により検出された複数の間隔に基づいて、前記マスク及び前記感光基板の走査中に前記調整手段を介して、前記照明領域と共役な露光領域内の前記感光基板の露光面の平均的な面を前記投影光学系の結像面に合わせ込む制御手段と、を有することを特徴とする走査型露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/20 521
, G03F 7/207
H01L 21/30 518
, H01L 21/30 526 A
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (2件)
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