特許
J-GLOBAL ID:200903009331609547
水底構造および底質・水質浄化法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高野 茂
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-065074
公開番号(公開出願番号):特開2001-252694
出願日: 2000年03月09日
公開日(公表日): 2001年09月18日
要約:
【要約】【課題】 長期的な底質・水質浄化の効果を有し、H2Sの発生を抑制し、かつ岩礁域の生物の棲息環境に適する水底構造および底泥が堆積した水底の底質・水質の浄化法を提供する。【解決手段】 上記の課題は次の発明により解決される。[1]内部摩擦角が高い粉粒物からなる下部層を形成し、その上に製鋼スラグを含有する上部層を形成する水底構造および底質・水質浄化法。[2]上記[1]において、内部摩擦角が高い粉粒物からなる下部層の平均厚さを10cm以上とし、製鋼スラグを含有する上部層の平均厚さを5cm以上とする水底構造および底質・水質浄化法。
請求項(抜粋):
内部摩擦角が高い粉粒物からなる下部層と、その上に製鋼スラグを含有する上部層とを有する水底構造。
IPC (5件):
C02F 11/00 ZAB
, C02F 11/00
, A01K 61/00 313
, A01K 63/04
, E02B 1/00
FI (5件):
C02F 11/00 ZAB C
, C02F 11/00 D
, A01K 61/00 313
, A01K 63/04 F
, E02B 1/00 Z
Fターム (12件):
2B003AA01
, 2B003BB03
, 2B003BB06
, 2B003DD04
, 2B003DD06
, 2B104FA15
, 4D059AA09
, 4D059BG03
, 4D059CC10
, 4D059DA04
, 4D059DA70
, 4D059EA20
引用特許:
審査官引用 (5件)
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特開昭55-096040
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特開昭57-125623
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特開平3-004988
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特開平4-215900
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水浄化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-096177
出願人:松下電器産業株式会社
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