特許
J-GLOBAL ID：200903009335742373
レーザ加工方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-126760
公開番号（公開出願番号）：特開平9-207343
出願日： 1996年05月22日
公開日（公表日）： 1997年08月12日
要約：
【要約】【課題】 精密部品の加工、例えばインクの吐出・印字品質が良好なインクジェット用ノズル等を容易且つ短時間で行うことができるレーザ加工方法を提供することを目的とする。【解決手段】 光が通過できる開口部と光が通過できない閉口部とを備えたマスク28に光源26から放出された光を入射させ、光がマスク28の開口部を通過する際に発生する回折光を他の光と干渉させて加工対象物31に加工光として入射させて、その加工光のエネルギーにより加工対象物31にアブレーションを発生させて、その加工対象物31を加工するという方法を用いている。
請求項（抜粋）：
インクを吐出するインク吐出口を有するオリフィス部と、インクが通過する流路部と、インクを供給する供給路部を備えたノズルをマスクとエキシマレーザ光によって形成するレーザ加工方法であって、マスクにスリットを設けていない完全開口の第1の領域及びスリットを密に設けた第2の領域及びスリットを粗に設けた第3の領域をそれぞれ有し、前記マスクを通過したエキシマレーザ光を基板に投射し、前記基板上において前記第1の領域に対応する部分に前記オリフィス部が形成され、前記第2の領域に対応する部分に前記流路部が形成され、前記第3の領域に対応する部分に前記供給路部が形成され、しかも前記オリフィスと前記流路部と前記供給路部を同時に形成することを特徴とするレーザ加工方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B41J 3/04 103 N
, B23K 26/06 J
