特許

J-GLOBAL ID：200903009343200644

パターン形成方法及びパターン形成装置

発明者： 井上 壮一 ,  東川 巌 ,  小川 洋司 ,  原 重博 ,  山元 和子
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-127127
公開番号（公開出願番号）：特開2003-289039
出願日： 1996年04月26日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：

【要約】【課題】 単一ショットと多重露光との組み合わせにより、特定領域を高い寸法精度で露光し、他の領域を高い位置精度で露光する。【解決手段】 電子ビームを任意形状に成形したビームを位置決めし、所定時間の照射を行うショット露光を繰り返し、該ショットの集合として基板上の感光性材料膜に所望パターン形状の露光領域を形成するパターン形成方法において、高い寸法精度が要求される領域Aに対し1回の単一のショットで露光を行い、高い位置精度が要求される領域Cに対し2回以上のショットを繰り返す。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビーム又は電磁波ビームを任意形状に成形したビームを位置決めし、所定時間の照射を行うショット露光を繰り返し、該ショットの集合として基板上の感光性材料膜に所望パターン形状の露光領域を形成するパターン形成方法において、選択された領域或いはパターンに対し1回の単一のショットで露光を行い、それ以外の他の領域或いはパターンに対し2回以上のショットを繰り返す多重露光を行うことを特徴とするパターン形成方法。

FI (2件)：

H01L 21/30 541 J ,  H01L 21/30 541 Q

Fターム (6件)：

5F056AA04 ,  5F056CA05 ,  5F056CC09 ,  5F056CD13 ,  5F056CD16 ,  5F056DA22

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平2-162715