特許

J-GLOBAL ID：200903009349332232

保持装置、露光装置及びデバイス製造方法

発明者： 高林 幸夫
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-284530
公開番号（公開出願番号）：特開2004-078209
出願日： 2003年07月31日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：

【課題】 結像性能の劣化となる光学部材の変形及び位置ずれによる収差を低減することで所望の光学性能をもたらす保持装置、露光装置及びデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】 この保持装置100は、3つの第1の溝116を有する光学部材110を保持するものであり、光学部材110を第1の溝116を介して支持する第1の支持部材120と、第1の溝116に対応する3つの第2の溝132を有し、第2の溝132を介して第1の支持部材120を支持する第2の支持部材(固定部剤)130とを有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

3つの第1の溝を有する光学部材を保持する保持装置であって、 前記光学部材を前記第1の溝を介して支持する第1の支持部材と、 前記第1の溝に対応する3つの第2の溝を有し、前記第2の溝を介して前記第1の支持部材を支持する第2の支持部材とを有することを特徴とする保持装置。

IPC (4件)：

G02B7/00 ,  G02B7/198 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

FI (6件)：

G02B7/00 C ,  G02B7/00 J ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515D ,  G02B7/18 B ,  G02B7/18 C

Fターム (18件)：

2H043AA03 ,  2H043AB03 ,  2H043AB04 ,  2H043AB09 ,  2H043AB10 ,  2H043AB30 ,  2H043AB32 ,  2H043AB36 ,  2H043AC01 ,  2H043AD03 ,  2H043AD15 ,  2H043AD21 ,  2H043AD23 ,  2H043BC04 ,  2H043CA04 ,  2H043CA08 ,  5F046BA03 ,  5F046CB01