特許
J-GLOBAL ID:200903009349822060

フォトレジスト方法及びこの方法に用いる組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐伯 憲生 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-287543
公開番号(公開出願番号):特開平11-002900
出願日: 1987年12月22日
公開日(公表日): 1999年01月06日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、新規かつ有用なフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 本発明は、乳酸エチル、アニソール及び酢酸アミルからなる溶剤混合物中に溶解した(a)少なくとも1種のアルカリ可溶性樹脂及び(b)オキソ-ジアゾナフタレンスルホニル又はカルボン酸ハロゲン化物とヒドロキシ又はポリヒドロキシバラスト化合物との反応から導かれるエステル又はポリエステルである少なくとも1種の光活性化合物を含むことを特徴とする、水性アルカリ溶液で現像可能である潜像を形成するため活性化線に感応性である組成物に関する。
請求項(抜粋):
乳酸エチル、アニソール及び酢酸アミルからなる溶剤混合物中に溶解した(a)少なくとも1種のアルカリ可溶性樹脂及び(b)オキソ-ジアゾナフタレンスルホニル又はカルボン酸ハロゲン化物とヒドロキシ又はポリヒドロキシバラスト化合物との反応から導かれるエステル又はポリエステルである少なくとも1種の光活性化合物を含むことを特徴とする、水性アルカリ溶液で現像可能である潜像を形成するため活性化線に感応性である組成物。
IPC (2件):
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 501
FI (2件):
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 501

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