特許
J-GLOBAL ID:200903009363341937
表面官能基の検出方法及び検出装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
石田 敬
, 鶴田 準一
, 福本 積
, 西山 雅也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-216954
公開番号(公開出願番号):特開2004-061179
出願日: 2002年07月25日
公開日(公表日): 2004年02月26日
要約:
【課題】迅速かつ簡便にXPSにより表面官能基を検出する。【解決手段】材料表面に存在する官能基の検出方法において、真空チャンバー内に配置した被検出材料の表面に、この表面上の検出しようとする官能基とのみ反応する化合物のガスを噴霧して前記官能基と化合物とを反応させ、次いで大気にさらすことなく被検出材料の表面にX線を照射してX線光電子分光分析法(XPS)により前記官能基と化合物の反応体を検出する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
材料表面に存在する官能基の検出方法であって、真空チャンバー内に配置した被検出材料の表面に、この表面上の検出しようとする官能基とのみ反応する化合物のガスを噴霧して前記官能基と化合物とを反応させ、次いで大気にさらすことなく被検出材料の表面にX線を照射してX線光電子分光分析法(XPS)により前記官能基と化合物の反応体を検出することを含む、官能基の検出方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (9件):
2G001AA01
, 2G001BA08
, 2G001CA03
, 2G001KA01
, 2G001LA05
, 2G001QA01
, 2G001RA02
, 2G001RA03
, 2G001RA20
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