防曇防汚物品とその製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-377366
公開番号（公開出願番号）：特開2003-176153
出願日： 2001年12月11日
公開日（公表日）： 2003年06月24日
要約：

【要約】【課題】充分な機械的耐久性と、光触媒活性とを具備する防曇防汚物品およびその製造方法の提供。【解決手段】透明基板10上に、光触媒活性を有する金属酸化物半導体を主成分とする膜11と、その上に、成膜時の圧力が0.8Pa以上の条件で反応性スパッタ法により形成された二酸化シリコンを主成分とする膜12とが形成されたことを特徴とする防曇防汚物品とその製造方法。

請求項（抜粋）：

透明基板上に、光触媒活性を有する金属酸化物半導体を主成分とする膜と、その上に、成膜時の圧力が0.8Pa以上の条件で反応性スパッタ法により形成された二酸化シリコンを主成分とする膜とが形成されたことを特徴とする防曇防汚物品。

IPC (6件)：

C03C 17/34 , B01J 35/02 , B01J 37/02 301 , B01J 37/08 , C23C 14/08 , C23C 14/34

FI (6件)：

C03C 17/34 Z , B01J 35/02 J , B01J 37/02 301 P , B01J 37/08 , C23C 14/08 N , C23C 14/34 M

Fターム (45件)：

4G059AA01 , 4G059AC21 , 4G059AC22 , 4G059AC30 , 4G059EA04 , 4G059EA05 , 4G059EB04 , 4G059GA01 , 4G059GA04 , 4G059GA12 , 4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA02A , 4G069BA02B , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA14A , 4G069BA48A , 4G069BB04A , 4G069BB04B , 4G069BC29A , 4G069BC35A , 4G069BC58A , 4G069CD10 , 4G069EB15X , 4G069EB15Y , 4G069EC22X , 4G069EE06 , 4G069FA01 , 4G069FB02 , 4G069FC06 , 4G069FC07 , 4K029AA09 , 4K029AA24 , 4K029BA43 , 4K029BA46 , 4K029BA48 , 4K029BA49 , 4K029BB02 , 4K029BC00 , 4K029BD00 , 4K029CA06 , 4K029EA01 , 4K029EA03 , 4K029GA01

引用特許：

審査官引用 (1件)

多機能ガラス
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-102969 出願人：日本板硝子株式会社

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