特許

J-GLOBAL ID：200903009388216495

参照画像作成方法、パターン検査装置及び参照画像作成プログラムを記録した記録媒体

発明者： 野崎 岳夫
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-357273
公開番号（公開出願番号）：特開2001-175857
出願日： 1999年12月16日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：

【要約】【課題】 被検査パターンのエッジ位置を高速に検出し、被検査パターンのパターン幅と参照データのパターン修正幅を正確に求める。【解決手段】 光学的走査部4は被検査パターンをレーザービームで走査し、光電画像処理部5は被検査パターンの画像を生成する。参照画像生成部3は、レーザービームの強度に相当する光学的点拡がり関数と被測定パターンの画像との畳み込み演算により、エッジ境界条件を求め、エッジ位置を検出する。参照画像生成部3は、各画素内に展開されたパターンに属するサブ画素数に基づいて各画素の階調値を算出し、階調値を階調ステップ数で割った回数値をその画素内に展開されたパターンの幅として、被測定パターンと参照データのパターン幅を算出する。

請求項（抜粋）：

設計データに基づいて基材上に形成された被検査パターンをレーザービームで走査し、前記基材を通過して得られる透過光を受光素子によって受光して、この受光素子で得られたパターン情報から被検査パターンの画像を生成し、この画像と前記設計データを画像化して得られる参照データの位置が一致するように前記参照データを修正して参照画像を生成し、前記被測定パターンの画像と参照画像とを比較して被検査パターンの欠陥を検出するパターン検査装置において、レーザービームの強度に相当する光学的点拡がり関数と前記被測定パターンの画像との畳み込み演算により、パターンエッジ位置に対応する階調値を示すエッジ境界条件を求め、このエッジ境界条件に基づいて前記被測定パターンのエッジ位置をサブ画素の単位で検出することを特徴とする参照画像作成方法。

IPC (4件)：

G06T 7/00 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/956 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

G01B 11/30 A ,  G01N 21/956 A ,  H01L 21/66 J ,  G06F 15/62 405 A

Fターム (67件)：

2F065AA12 ,  2F065AA22 ,  2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065CC19 ,  2F065CC25 ,  2F065DD06 ,  2F065EE00 ,  2F065FF02 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065HH15 ,  2F065MM11 ,  2F065NN17 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ08 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ14 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ30 ,  2F065QQ33 ,  2F065QQ36 ,  2F065QQ51 ,  2F065RR05 ,  2F065RR09 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051BA10 ,  2G051CB02 ,  2G051EA08 ,  2G051EA09 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA30 ,  2G051EB01 ,  2G051EC05 ,  2G051ED13 ,  2G051ED23 ,  4M106AA09 ,  4M106BA05 ,  4M106CA39 ,  4M106DB02 ,  4M106DB08 ,  4M106DB21 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  5B057BA02 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CE06 ,  5B057DA07 ,  5B057DB02 ,  5B057DC09 ,  5B057DC17