特許
J-GLOBAL ID:200903009391888658
欠陥検査方法及び欠陥検査装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-355622
公開番号(公開出願番号):特開2000-180373
出願日: 1998年12月15日
公開日(公表日): 2000年06月30日
要約:
【要約】【課題】 広範囲の検査対象領域を高分解能で測定できるようにする。【解決手段】 被検査物であるガラス基板31からの光を、光軸が互いに略平行に設定された複数のレンズ32bよりなるレンズアレイ32により取り出し、取り出した光を、空間フィルタ(ハイパスフィルタ)33を通して、結像レンズ34によりCCDカメラ35の受光領域に集中して結像させる。
請求項(抜粋):
被検査物の検査領域にある欠陥を光学的な画像検出手段を用いて検出する欠陥検査方法において、前記検査領域からの光を、光軸が互いに略平行に設定された複数のレンズよりなるレンズアレイにより取り出し、該レンズアレイの各レンズにより取り出された光を結像レンズにより前記画像検出手段の受光領域に集中して結像させ、該像に応じた画像検出手段の信号により欠陥を検出することを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (3件):
G01N 21/88
, G03F 1/08
, H01L 21/66
FI (3件):
G01N 21/88 650
, G03F 1/08 S
, H01L 21/66 J
Fターム (24件):
2G051AA71
, 2G051AB01
, 2G051AB07
, 2G051BA20
, 2G051CA04
, 2G051CB06
, 2G051CC07
, 2G051CC09
, 2H095BD04
, 2H095BD17
, 2H095BD19
, 4M106AA20
, 4M106BA04
, 4M106BA05
, 4M106CA39
, 4M106CA41
, 4M106DB04
, 4M106DB07
, 4M106DB08
, 4M106DB11
, 4M106DB12
, 4M106DB15
, 4M106DB30
, 4M106DJ11
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