特許

J-GLOBAL ID：200903009394418687

現像処理方法

発明者： 田中 信洋
出願人/特許権者： 株式会社半導体エネルギー研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-302045
公開番号（公開出願番号）：特開2002-110525
出願日： 2000年10月02日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
要約：

【要約】【課題】リソグラフィの現像工程における現像の均一性の向上と現像液消費量の低減を課題とする。【解決手段】 ウエハと同じ直径の平面を下部に備えた現像ノズルを、ウエハ上に形成されたレジスト表面と第1の距離はなれた位置に接近させた後、現像液を吐出し、レジスト表面と現像ノズル下部の平面との間に、空気の層を含まないように現像液を満たして保持する。その後、レジスト表面と第2の距離はなれた位置まで現像ノズルを上昇させつつ、現像液を微量に吐出して、レジスト表面と第2の距離はなれた位置で、レジスト表面と現像ノズル下部の平面との間に空気の層を含まないように現像液を満たして保持する。

請求項（抜粋）：

レジストを塗布し露光したウエハを水平に保持する工程と、前記レジスト上にノズルを保持する工程と、前記レジスト上に現像液を供給する工程とを有する現像処理方法において、ウエハと同じ直径を有する平らな円形の面に複数の吐出口を備えたノズルを、前記円形の面と前記レジスト表面とが第1の距離はなれた位置で保持する工程と、前記ノズルから現像液を吐出して、前記第1の距離はなれた位置で保持された前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間が現像液で満たされた第1の状態とした後、前記ノズルの現像液の吐出を停止する工程と、前記ノズルを上昇させつつ現像液を吐出する工程と、ノズルの円形の面と前記レジスト表面とが第2の距離はなれた位置で、ノズルの上昇及び現像液の吐出を停止して、前記第2の距離はなれた位置に保持された前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間が現像液で満たされた第2の状態とする工程と、を有することを特徴とする現像処理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501 ,  G03F 7/30 502

FI (3件)：

G03F 7/30 501 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 569 F

Fターム (6件)：

2H096AA25 ,  2H096GA23 ,  2H096GA30 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA14