特許
J-GLOBAL ID：200903009395160438
印刷方法及び転写体
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-142790
公開番号（公開出願番号）：特開平5-330266
出願日： 1992年06月03日
公開日（公表日）： 1993年12月14日
要約：
【要約】【目的】オフセット方式の印刷方法及び転写体において、転写体上でのインキの過剰な乾燥による欠陥の発生を防止する方法及び転写体を提供する。【構成】印刷に用いるインキに含まれる溶解成分が浸透可能な表面層と、浸透不可能または困難な下地層とを有する転写体を用いる。また特に、下地層を低伸縮性・可撓性の浸透防止層と下地伸縮性層とから構成した転写体を用いる。【効果】インキから転写体中への溶解成分の吸収は表面層のみに限られるので、インキが過度に乾燥することがなく、転写不良による欠陥の発生が抑えられる。また特に、表面層/低伸縮性可撓性浸透防止層/下地伸縮性層の構成の転写体を用いると、印刷画像の歪を低減する効果も同時に得られる。
請求項（抜粋）：
溶媒を含むインキを版上から伸縮性転写体を介して被印刷体表面へ転写するオフセット方式の印刷方法において、前記転写体として、前記インキに含まれる溶媒が浸透可能な表面層と、浸透不可能または困難な下地層とを少なくとも有する転写体を用いることを特徴とする印刷方法。
引用特許：
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