ハロゲン含有ガスの処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：児玉俊英 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-081777
公開番号（公開出願番号）：特開2002-273169
出願日： 2001年03月22日
公開日（公表日）： 2002年09月24日
要約：

【要約】【課題】放電を利用したハロゲン含有ガスの処理装置において、高効率な処理とユーザニーズに沿った装置構造の実現を可能とするハロゲン含有ガスの処理装置を提供する。【解決手段】冷却水路335等によって冷却される接地側電極331と高電圧側電極332とを有する放電部33の放電空間333に放電を発生させて、ハロゲン含有ガス供給手段により電極331,332間に供給されたハロゲン系ガスを含有するハロゲン含有ガスを分解するハロゲン含有ガス処理装置において、放電空間333におけるガス圧力が大気圧または大気圧近傍圧力であり、電極331,332のいずれか一方だけが冷却されている場合には放電空間333の放電空隙長を1.0mm以下とし、電極331,332の両方が冷却されている場合には放電空間333の放電空隙長を4.0mm以下とする。

請求項（抜粋）：

少なくともいずれか一方の表面に誘電体が設けられ、この誘電体を介して対向配置された接地側電極と高電圧側電極とを有する1個以上の放電部および上記電極を冷却する冷却手段を備え、この放電部に高電圧を印加し、放電を発生させて、ハロゲン含有ガス供給手段により上記2個の電極間に供給されたハロゲン系ガスを含有するハロゲン含有ガスを分解するハロゲン含有ガスの処理装置において、上記2個の電極間の放電空間におけるガス圧力が大気圧または大気圧近傍圧力であり、上記電極のいずれか一方だけが冷却されている場合には上記放電空間の放電空隙長を1.0mm以下とし、上記電極の両方が冷却されている場合には上記放電空間の放電空隙長を4.0mm以下としたことを特徴とするハロゲン含有ガスの処理装置。

IPC (5件)：

B01D 53/70 , B01D 53/32 , B01D 53/34 ZAB , C07B 35/06 , C07C 19/08

FI (5件)：

B01D 53/32 , C07B 35/06 , C07C 19/08 , B01D 53/34 134 E , B01D 53/34 ZAB

Fターム (31件)：

4D002AA17 , 4D002AA22 , 4D002AC10 , 4D002BA02 , 4D002BA04 , 4D002BA07 , 4D002BA13 , 4D002CA01 , 4D002CA13 , 4D002DA01 , 4D002DA07 , 4D002DA35 , 4D002DA51 , 4D002DA54 , 4D002DA56 , 4D002DA70 , 4D002EA01 , 4D002EA05 , 4D002GA01 , 4D002GA02 , 4D002GA03 , 4D002GB02 , 4D002GB03 , 4D002GB06 , 4D002GB11 , 4D002GB20 , 4D002HA03 , 4H006AA04 , 4H006AA05 , 4H006AC13 , 4H006BA91

引用特許：

審査官引用 (5件)

放電装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-028033 出願人：神鋼パンテツク株式会社
ハロゲン系ガスの処理方法、処理装置および反応処理装置並びに半導体装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-326511 出願人：セイコーエプソン株式会社
プラズマ化学反応装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-180282 出願人：株式会社東芝

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