特許

J-GLOBAL ID：200903009434115607

位置測定方法および位置測定装置並びに露光装置

発明者： 佐伯 和明
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-137210
公開番号（公開出願番号）：特開平11-325832
出願日： 1998年05月19日
公開日（公表日）： 1999年11月26日
要約：

【要約】【課題】 移動ストロークより短い長さの平面鏡でもXYステージの位置を高精度に測定することができ、低コスト化およびステージの高制御性能を実現できる位置測定方法および位置測定装置並びに露光装置を提供する。【解決手段】 第1光波干渉計LXの出力に基づいて計測した第1方向(x方向)に関するステージ8の座標位置Xに応じて、第2方向(y方向)に関するステージの座標位置Yを計測する第2光波干渉計(LY1、LY2)を切り換え、第1方向における計測位置を切り換えるので、ステージの第1方向の移動ストロークより短い反射面RYを用いても、第2方向における高精度な位置測定が可能となる。さらに、反射面の短尺化によって、装置コストの低減およびステージの移動制御の高性能化を図ることができる。

請求項（抜粋）：

第1方向から入射する光を逆方向に反射するようにステージに設けられる第1反射体と第1方向に直交する第2方向から入射する光を第1方向に沿った反射面で逆方向に反射するようにステージに設けられる第2反射体とに、それぞれレーザビームを照射する第1光波干渉計と第2光波干渉計との出力に基づいてステージの座標位置を測定する方法であって、複数の前記第2光波干渉計から前記第2反射体の反射面に対して前記第1方向に互いに離間させた位置に複数のレーザビームをそれぞれ照射し、前記第1光波干渉計の出力に基づいて計測した前記第1方向に関する前記ステージの座標位置に応じて、第2方向に関するステージの座標位置を計測する第2光波干渉計を切り換え、第1方向における計測位置を切り換えることを特徴とする位置測定方法。

IPC (5件)：

G01B 11/00 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/68

FI (5件)：

G01B 11/00 G ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/68 K ,  H01L 21/30 503 A