特許
J-GLOBAL ID:200903009435859278
排水処理方法及び装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
赤塚 賢次 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-293367
公開番号(公開出願番号):特開2001-113284
出願日: 1999年10月15日
公開日(公表日): 2001年04月24日
要約:
【要約】【課題】 半導体製造工程や液晶ディスプレイ製造工程等から排出されるフッ化物イオンを含有する排水を薬剤を使用することなく、あるいは最小限の使用により処理して、フッ化物イオンが除去された排水を得ると共に、フッ化物イオンをフッ化水素酸として工場内回収できる排水処理方法を提供すること。【解決手段】 フッ化物イオンを含有する排水を通液型コンデンサに供給し、通液型コンデンサが有する一対の電極に直流電圧を印加して通液中の排水からフッ化物イオン成分を除去する脱塩工程からフッ化物イオン濃度が低減された排水を得、その後前記一対の電極を短絡あるいは直流電源を逆接続して、前記除去されたフッ化物イオン成分を通液中の排水と共に回収する濃縮工程からフッ化水素酸を得る排水処理方法。
請求項(抜粋):
フッ化物イオンを含有する排水を通液型コンデンサに供給し、通液型コンデンサが有する一対の電極に直流電圧を印加して通液中の排水からイオン成分を除去する脱塩工程からフッ化物イオン濃度が低減された排水を得、その後前記一対の電極を短絡あるいは直流電源を逆接続して、前記除去されたフッ化物イオン成分を通液中の排水又は回収用水と共に回収する濃縮工程からフッ化水素酸又はフッ化物を得ることを特徴とする排水処理方法。
IPC (2件):
C02F 1/48
, C02F 1/52 ZAB
FI (2件):
C02F 1/48 B
, C02F 1/52 ZAB J
Fターム (19件):
4D061DA08
, 4D061DB18
, 4D061EA03
, 4D061EB05
, 4D061EB17
, 4D061EB23
, 4D061EB29
, 4D061EB37
, 4D061FA14
, 4D061GA21
, 4D062BA19
, 4D062BB05
, 4D062CA17
, 4D062DA04
, 4D062EA14
, 4D062EA36
, 4D062FA01
, 4D062FA11
, 4D062FA28
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