特許

J-GLOBAL ID：200903009442827012

多層薄膜組成測定方法

発明者： 寺田 慎一
出願人/特許権者： 株式会社テクノス研究所
代理人 (1件)： 西教 圭一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-134466
公開番号（公開出願番号）：特開2000-321223
出願日： 1999年05月14日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：

【要約】【課題】 多層薄膜に共通元素が存在する場合でも、多層薄膜の組成を正確に測定できる多層薄膜組成測定方法を提供する。【解決手段】 下層膜の共通元素MBおよび非共通元素MCの組成比Kbを特定する工程と、励起X線を低い入射角θL で照射し、多層薄膜から発生する共通元素MBおよび非共通元素MA、MCの蛍光X線の各強度を検出する工程と、励起X線を高い入射角θH (θH>θL)で照射し、下層膜から発生する非共通元素MCの蛍光X線の強度を検出する工程と、前記組成比Kbに基づいて、入射角θH における下層膜由来の共通元素MBおよび非共通元素MCの蛍光X線の強度比を算出する工程と、前記強度比に基づいて、入射角θL における蛍光X線のうち上層膜由来の共通元素MBの蛍光X線の強度を算出する工程と、上層膜由来の共通元素MBの蛍光X線の強度に基づいて、上層膜の共通元素MBおよび非共通元素MAの組成比Ktを算出する。

請求項（抜粋）：

互いに共通する元素MBおよび共通しない元素MA、MCがそれぞれ存在する上層膜および下層膜から成る多層薄膜が表面に形成された基板に向けて励起X線を照射して、多層薄膜から発生する蛍光X線を検出することによって多層薄膜の組成を測定する方法であって、下層膜の共通元素MBおよび非共通元素MCの組成比Kbを特定する工程と、励起X線を入射角θL で照射し、多層薄膜から発生する共通元素MBおよび非共通元素MA、MCの蛍光X線の各強度を検出する工程と、前記組成比Kbに基づいて、入射角θL における下層膜由来の共通元素MBおよび非共通元素MCの蛍光X線の強度比ILbを算出する工程と、前記強度比ILbに基づいて、入射角θL における蛍光X線のうち上層膜由来の共通元素MBの蛍光X線の強度を算出する工程と、上層膜由来の共通元素MBの蛍光X線の強度と非共通元素MAの蛍光X線の強度との比ILtに基づいて、上層膜の共通元素MBおよび非共通元素MAの組成比Ktを算出する工程とを含むことを特徴とする多層薄膜組成測定方法。

Fターム (18件)：

2G001AA01 ,  2G001AA09 ,  2G001AA10 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001EA01 ,  2G001EA03 ,  2G001EA09 ,  2G001FA02 ,  2G001FA17 ,  2G001FA30 ,  2G001GA01 ,  2G001GA13 ,  2G001KA01 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001NA15 ,  2G001NA20

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開昭59-195146
  
• 特開昭61-210932
  
• 特開昭61-207955
  
• 特開平2-257045