特許
J-GLOBAL ID:200903009444659010
高度多孔性ポリ二フッ化ビニリデン膜
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中村 稔 (外6名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-526315
公開番号(公開出願番号):特表2000-505719
出願日: 1997年01月22日
公開日(公表日): 2000年05月16日
要約:
【要約】本発明は、ポリ二フッ化ビリニデン(PVDF)ポリマー溶液及び/又は分散液を流延することにより形成した合成高分子材料に関する。本発明にしたがい形成した膜は全て高度多孔性である。内部等方性膜及び高度非対称性PVDF膜の両者が開示される。本発明の膜は種々の精密ろ過及び限外濾過において有用である。
請求項(抜粋):
最小の孔を含む微孔性表面と、最大の孔を含む反対側表面と、両者の間にあって、ポリマー材料の繊維状ウェブから形成した多孔性担体を含む厚みを有することを特徴とする微孔性ポリ二フッ化ビニリデンポリマー膜。
IPC (5件):
B01D 71/34
, B01D 39/16
, B32B 5/14
, B32B 27/30
, C08J 9/28 CEW
FI (5件):
B01D 71/34
, B01D 39/16 C
, B32B 5/14
, B32B 27/30 D
, C08J 9/28 CEW
引用特許:
審査官引用 (5件)
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特許第2899352号
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精密ろ過膜および濾過方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-017624
出願人:富士写真フイルム株式会社
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特開昭58-091732
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特公平1-043619
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耐オゾン性膜モジュール
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-040637
出願人:旭化成工業株式会社
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