特許
J-GLOBAL ID:200903009445970690

荷電粒子線露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 永井 冬紀
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-157488
公開番号(公開出願番号):特開平7-135144
出願日: 1993年06月28日
公開日(公表日): 1995年05月23日
要約:
【要約】【目的】 空間電荷効果による荷電粒子線のボケを抑制しつつ従来よりも効率よく露光を行ない得る荷電粒子線露光装置を提供する。【構成】 電子銃1からの電子ビームBによりマスク5の特定範囲を同時に照射し、当該特定範囲に形成されたパターンを投影レンズ6,7を介して感光基板Wに転写する露光装置において、マスク5上の特定範囲におけるパターンの充填率が大きいほど投影レンズ6,7に挿入した円筒62,72へ印加する正電圧を小さくして投影レンズ6,7の焦点距離を短くする。
請求項(抜粋):
荷電粒子線によりマスクの特定範囲を同時に照射し、当該特定範囲に形成されたパターンを投影レンズを介して感光基板に転写する荷電粒子線露光装置において、前記マスク上の前記特定範囲における前記パターンの充填率が大きいほど前記投影レンズの焦点距離が短くなるように当該投影レンズを制御する焦点制御手段を備えることを特徴とする荷電粒子線露光装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521
FI (2件):
H01L 21/30 541 F ,  H01L 21/30 541 A
引用特許:
審査官引用 (7件)
  • 特開平3-119717
  • 電子線描画装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-114468   出願人:株式会社日立製作所
  • 特開平2-068920
全件表示

前のページに戻る