1,2-ジオール構造を有する重合体を用いたネガ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡辺勝 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-288214
公開番号（公開出願番号）：特開2000-122288
出願日： 1998年10月09日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 ArFエキシマレーザ光等の短波長光を光源に用いたリソグラフィー用のネガ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】一般式(1):(R1は水素原子またはメチル基、Gは1,2-ジオール構造を持つ脂環基を表す。)で表される単位を含有する重合体、架橋剤および光酸発生剤を含有することを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。系架橋剤は、酸触媒存在下で重合体を架橋させ、その結果重合体は現像液に不溶化する。よって、このネガ型レジスト組成物は、露光部では光酸発生剤から生成した酸の作用により現像液に不溶化するために、ネガ型パターンを得ることが可能である。また、重合体は、従来のネガ型レジストのベース重合体とは異なり、ベンゼン環を有さないためにArFエキシマレーザ光に対し、透明性が高く、また有橋環式脂環基により高いエッチング耐性を有している。

請求項（抜粋）：

一般式(1)で表わされる単位を有する重合体と、一般式(5)で表わされる官能基を有する化合物からなる架橋剤と、露光により酸を発生する光酸発生剤と、を含有することを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。【化1】(一般式(1)において、R1は水素原子またはメチル基、Gは1,2-ジオール構造を持つ脂環基を表す。)【化2】(一般式(5)において、R10は水素原子、炭素数1から6のアルキル基または炭素数3から6のオキソアルキル基を表す。)

IPC (6件)：

G03F 7/038 601 , G03F 1/08 , G03F 7/004 501 , G03F 7/027 , G03F 7/029 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/038 601 , G03F 1/08 A , G03F 7/004 501 , G03F 7/027 , G03F 7/029 , H01L 21/30 502 R

Fターム (17件)：

2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 2H095BA06 , 2H095BC05 , 2H095BC27

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