特許

J-GLOBAL ID：200903009479862497

洗浄乾燥装置

発明者： 山本 正志 ,  新村 嘉朗 ,  満田 勝弘 ,  本田 善次郎 ,  三原 和雄 ,  中塚 修志 ,  白井 秀樹 ,  市古 育弘
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  ダイセル化学工業株式会社 ,  ヘキストジャパン株式会社 ,  株式会社金門製作所
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-348050
公開番号（公開出願番号）：特開平6-204202
出願日： 1992年12月28日
公開日（公表日）： 1994年07月22日
要約：

【要約】【目的】 ウエハ洗浄乾燥装置に設けられたIPA(イソプロピルアルコール)再生装置の小型化を実現する。【構成】 洗浄槽3に吊り下げられた半導体ウエハ11の表面から滴下したIPA-水混液は、受け皿7から配管14を通じてIPA再生装置20へと送られる。その際、半導体ウエハ11を洗浄槽3内に装着してから数十秒の間は、IPA-水混液を廃液タンク21側に流し、その後はサブタンク22側に流すようにバルブ15、16の開閉を調整する。サブタンク22と有機物分離用半透膜モジュール23との間には、循環ポンプ26およびバルブ27を設けた循環系が形成され、IPA-水混液をサブタンク22と有機物分離用半透膜モジュール23との間で何回か循環させ、繰り返し水分を除去する。

請求項（抜粋）：

被処理物を有機溶媒の蒸気に曝して前記被処理物の表面の水分を除去する洗浄槽と、有機溶媒-水混液中の水分を分離除去して前記有機溶媒を再生する有機物分離用半透膜モジュールを備えた有機溶媒再生装置とを有する洗浄乾燥装置であって、前記有機物分離用半透膜モジュールの前段にサブタンクを設け、前記有機溶媒-水混液を前記有機物分離用半透膜モジュールと前記サブタンクとの間で複数回循環させるように構成したことを特徴とする洗浄乾燥装置。