磁気記録媒体の磁化パターン形成方法及び磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法、並びに磁気記録装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-226556
公開番号（公開出願番号）：特開2001-357524
出願日： 2000年07月27日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
要約：

【要約】【課題】高密度で欠陥の無い磁化パターンを精度よく、かつ簡便に、短時間で磁気記録媒体に形成することができる。さらに、高密度記録が可能で、耐久性の高い磁気記録媒体及び磁気記録装置を短時間かつ安価に提供できる。【解決手段】基板上に磁性薄膜を設けてなる磁気記録媒体に対し、マスク手段を通してパルス状エネルギー線を照射し磁性薄膜上にエネルギー線の濃淡を形成し局所的に加熱する工程と、磁性薄膜に外部磁界を印加する工程とを含む磁化パターンの形成方法であって、マスク手段及び/又は磁気記録媒体と、エネルギー線位置とを相対移動させながらパルス状エネルギー線を照射し、かつパルス状エネルギー線照射と、上記相対移動とを同期させる磁気記録媒体の磁化パターン形成方法、及びそれにより磁化パターンを形成した磁気記録媒体並びにそれを用いた磁気記録装置。

請求項（抜粋）：

基板上に磁性薄膜を設けてなる磁気記録媒体に対し、マスク手段を通してパルス状エネルギー線を照射し磁性薄膜上にエネルギー線の濃淡を形成し局所的に加熱する工程と、磁性薄膜に外部磁界を印加する工程とを含む磁化パターンの形成方法であって、マスク手段及び/又は磁気記録媒体と、エネルギー線位置とを相対移動させながらパルス状エネルギー線を照射し、かつパルス状エネルギー線照射と、上記相対移動とを同期させることを特徴とする磁気記録媒体の磁化パターン形成方法。

IPC (5件)：

G11B 5/86 101 , G11B 5/86 , G11B 5/64 , G11B 5/72 , G11B 5/84

FI (5件)：

G11B 5/86 101 A , G11B 5/86 101 B , G11B 5/64 , G11B 5/72 , G11B 5/84 Z

Fターム (8件)：

5D006AA02 , 5D006AA05 , 5D006BB07 , 5D006FA00 , 5D112AA05 , 5D112AA24 , 5D112DD00 , 5D112GA19

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-034744
特開平4-034744
特開昭60-035336

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