特許
J-GLOBAL ID：200903009488623217
粒度分布幅の狭いハイドロキシアパタイト、及び合成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
桑原 英明
, 木下 洋平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-080664
公開番号（公開出願番号）：特開2005-263581
出願日： 2004年03月19日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：
【課題】 平均粒子径が任意の数ナノメートルから数百ナノメートル内で調整でき、粒度分布幅が狭いハイドロキシアパタイトを高価な装置を用いることなく製造する。【解決手段】 ハイドロキシアパタイトを湿式合成するときに反応温度を制御する。温度制御は均一なハイドロキシアパタイトの合成を促進する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
合成時の反応温度範囲を任意の温度に保つことにより、粒度分布幅が狭く、任意の平均粒子径に調整できることを特徴とするハイドロキシアパタイトの合成方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
4C089AA01
, 4C089BA16
, 4C089CA02
, 4C089CA05
