特許
J-GLOBAL ID：200903009500075310
ビーム加速装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
曾我 道照
, 曾我 道治
, 古川 秀利
, 鈴木 憲七
, 梶並 順
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-302684
公開番号（公開出願番号）：特開2004-139812
出願日： 2002年10月17日
公開日（公表日）： 2004年05月13日
要約：
【課題】加速コアの発熱を抑制し加速コアに印可する励磁周波数を高周波数とすることで加速電圧を増大させる高性能なビーム加速装置を得る。【解決手段】荷電粒子ビームが通過する環状通路1aが内部に形成された環状中空容器1と、環状中空容器1の円周方向に沿って複数個設けられ荷電粒子ビームを偏向させて環状通路1a内の周回軌道上に誘導する磁場発生手段2と、環状中空容器1の所定の位置に設けられ加速電場を誘起する加速ギャップ3と、環状中空容器1を取り囲むように設けられ内部の磁束を変化させて電磁誘導により加速ギャップ3を介して加速電場を発生する加速コア4とを備え、加速コア4に印可する励磁周波数の1周期以内に荷電粒子の入射から出射までを完了するビーム加速装置であり、加速コア4は、厚さが50μm以下で飽和磁束密度が1T以上の軟磁性合金のリボン状薄板材が多層巻きされて作製されている。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームが通過する環状通路が内部に形成された環状中空容器と、
前記環状中空容器の円周方向に沿って複数個設けられ前記荷電粒子ビームを偏向させて該荷電粒子ビームを前記環状通路内の周回軌道上に誘導する固定磁場発生手段と、
前記環状中空容器の所定の位置に設けられ前記荷電粒子ビームの加速電場を誘起する加速ギャップと、
前記環状中空容器を取り囲むように設けられ内部の磁束を変化させて電磁誘導により前記加速ギャップを介して前記加速電場を発生する加速コアとを備え、
前記加速コアに印可する励磁周波数の1周期以内に荷電粒子の入射から出射までを完了するビーム加速装置であって、
前記加速コアは、厚さが50μm以下で飽和磁束密度が1T以上の軟磁性合金のリボン状薄板材が多層巻きされて作製されている
ことを特徴とするビーム加速装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2G085AA16
, 2G085BA09
, 2G085BC05
, 2G085EA01
, 2G085EA07
