特許
J-GLOBAL ID：200903009503747807
転写露光方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
金田 暢之
, 伊藤 克博
, 石橋 政幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-318118
公開番号（公開出願番号）：特開2004-153120
出願日： 2002年10月31日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：
【課題】分割露光における特性差を抑制することのできる転写露光方法を提供する。【解決手段】少なくとも一部に所定のマスクパターンを有する2枚のマスクのそれぞれで露光(ショットA、B)を行い、該露光により得られる上記2枚のマスクからのパターンをウェーハ上でつなぎ合わせて所定の転写パターンを形成する転写露光方法において、上記所定の転写パターンの、上記所定のマスクパターンに対応するパターンの寸法が上記2枚のマスクのそれぞれで同じになるように、上記ショットA、Bにおける露光パラメータEA、EBをそれぞれ調整する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
少なくとも一部に所定のマスクパターンを有する複数のマスクのそれぞれで露光を行い、該露光により得られる前記複数のマスクからのパターンをウェーハ上でつなぎ合わせて所定の転写パターンを形成する転写露光方法において、
前記所定の転写パターンの、前記所定のマスクパターンに対応するパターンの寸法が前記複数のマスクのそれぞれで同じになるように、前記複数のマスクのそれぞれの露光時における露光パラメータを調整するステップを含むことを特徴とする転写露光方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 514A
, G03F7/20 521
5F046AA13
, 5F046AA25
, 5F046BA03
, 5F046DA01
, 5F046DA02
, 5F046DA14
, 5F046DD03
, 5F046DD06
