特許
J-GLOBAL ID：200903009505789825
露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-174160
公開番号（公開出願番号）：特開平7-029800
出願日： 1993年07月14日
公開日（公表日）： 1995年01月31日
要約：
【要約】【目的】 コンタクトホールパターンのような孤立的なパターンであっても、リンギング現象を抑制して良好な結像特性で露光を行う。【構成】 所定の位相分布を有する第1のフォトマスクR1のパターン像を投影光学系PLを介してウエハW上に露光した後、第1のフォトマスクR1とは異なる位相分布を有する第2のフォトマスクR2のパターン像を投影光学系PLを介してウエハW上に重ねて露光する。第1のフォトマスクR1上の領域34と第2のフォトマスクR2上の領域37とが重なった領域39が両側の領域に対してインコヒーレント化される。
請求項（抜粋）：
フォトマスク上のパターンの像を感光性の基板上に投影露光する方法において、第1のフォトマスク上のパターンを前記感光性の基板上に投影露光する第1工程と、前記第1のフォトマスクのパターンとは位相分布が異なる第2のフォトマスクのパターンを前記感光性の基板上に重ねて投影露光する第2工程と、を有することを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
