特許
J-GLOBAL ID：200903009505869861
描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西脇 民雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-239361
公開番号（公開出願番号）：特開平5-080260
出願日： 1991年09月19日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：
【要約】【目的】 ポリゴンミラーの回転ムラによる露光位置の誤差を補正することができる描画装置を提供することを目的とする。【構成】 レーザー11から発した光束を偏向するポリゴンミラー14と、偏向された光束を感光材料20の上にスポットとして結像させるfθレンズ16と、ポリゴンミラー14の回転位置を検出する回転位置検出回路48と、検出された回転位置に基づいてポリゴンミラー14の回転ムラを積分して誤差信号を出力する積分回路49と、積分回路49からの誤差信号に対応して誤差によるスポットの位置ズレを補正するよう光束の方向を変化させる補正用偏向手段3とを備えることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
光源から発した光束を偏向するポリゴンミラーと、偏向された光束を描画対象の上にスポットとして結像させる結像レンズと、前記ポリゴンミラーの回転ムラを検出する回転ムラ検出手段と、前記光源と前記ポリゴンミラーとの間に設けられ、前記回転ムラ検出手段から出力される誤差信号に対応して該誤差による前記スポットの位置ズレを補正するよう前記光束の方向を変化させる補正用偏向手段とを備えることを特徴とする描画装置。
IPC (2件)：
引用特許：
審査官引用 (2件)
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特開昭62-164014
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特開昭62-201412
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