特許
J-GLOBAL ID：200903009525146009
露光方法及びその露光方法を用いたデバイス製造方法、及び露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-100910
公開番号（公開出願番号）：特開2000-311853
出願日： 1991年02月28日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 感光基板の多重露光に用いる複数のパターンをそれぞれ高解像度、かつ大焦点深度で転写可能とする。【解決手段】 感光基板上で複数のパターンを合成して1つのパターンを形成するとき、その全体パターンの中で、微細度又は、周期方向に応じて少なくとも2つの分解パターンに分解し、その複数のパターンにそれぞれ対応して照明光学系内のフーリエ変換面上での照明光の光量分布を中心を、照明光学系、もしくは投影光学系の光軸から偏心した位置に集中させるように変更する。
請求項（抜粋）：
感光基板に形成すべき全体パターンを複数の分解されたパターンに分け、該分解パターンの夫々をマスクに形成した後、前記複数の分解パターンの夫々に光源からの照明光を照明光学系を介して照射し、前記複数の分解パターンの夫々を投影光学系を介して前記感光基板上の所定領域内に順次重ね合わせ露光する露光方法であって、前記全体パターンの中で、パターンの微細度に差のある部分、又は周期方向の差異に差異がある部分を少なくとも第1の分解パターンと第2の分解パターンとの2つに分解し、前記第1の分解パターンのほぼフーリエ変換相当面、もしくはその近傍の面内を通る前記照明光束を、前記第1の分解パターンの微細度、又は周期方向に応じて前記照明光学系の光軸、もしくは前記投影光学系の光軸から偏心した位置に中心を有する領域に集中させることによって、前記第1の分解パターンを前記光軸に対して所定量だけ傾いた照明光で照射する第1露光工程と、前記第2の分解パターンのほぼフーリエ変換相当面、もしくはその近傍の面内を通る前記照明光を、前記第2の分解パターンの微細度、又は周期方向に応じて前記光軸から偏心した位置に中心を有する領域に集中させることによって、前記第2パターンに前記光軸に対して所定量だけ傾いた照明光で照射する第2露光工程とを有し、前記少なくとも2つの分解パターンを前記感光基板上に順次重ね合わせ露光することを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 514 C
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 502 C
, H01L 21/30 516 Z
出願人引用 (3件)
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特開平2-166717
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特開昭61-091662
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特開昭63-232318
審査官引用 (5件)
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