特許
J-GLOBAL ID：200903009529036984
疎水性オルガノシリカゾルの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-136315
公開番号（公開出願番号）：特開平11-043319
出願日： 1998年05月19日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：
【要約】【課題】 疎水性有機溶媒に安定に分散し、凝集物等を含まず高濃度においても低粘度のシリカゾルを、工業的に効率よく製造する方法を提供すること。【解決手段】 親水性コロイド状シリカを含有し、ジシロキサン化合物及び/又はモノアルコキシシラン化合物のシリル化剤を含有し、且つその残余として疎水性有機溶媒と炭素数1〜3のアルコールとの混合溶媒と媒体中15重量%以下の水とからなる媒体を含有する反応混合物を、アルカリが除去され又は当量以上の酸で中和された状態で、熟成することにより、疎水性コロイド状シリカが分散したシリル化処理シリカゾルを生成させる。次に当該シリル化処理シリカゾルに疎水性有機溶媒を添加して、蒸留することにより、疎水性オルガノシリカゾルを製造すること。
請求項（抜粋）：
5.5〜550m2 /gの比表面積を有する親水性コロイド状シリカを5〜55重量%のSiO2 濃度で含有し、ジシロキサン化合物及び/又はモノアルコキシラン化合物であるシリル化剤を、当該親水性コロイド状シリカの表面積100m2 当たりSi原子として0.03〜2ミリモル量比に含有し、且つその残余として0.1〜12重量%の水溶解度を有する疎水性有機溶媒に対して炭素数1〜3のアルコールは0.05〜20の重量比である混合溶媒と媒体中15重量%以下の水とからなる媒体を含有する反応混合物を、反応混合物中に存在するアルカリが除去され又は当量以上の酸で中和された状態で、0〜100°Cで熟成することにより、疎水性コロイド状シリカが分散したシリル化処理シリカゾルを生成させることを含む疎水性オルガノシリカゾルの製造方法。
引用特許：
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