特許

J-GLOBAL ID：200903009537796815

研磨液組成物

発明者： 大谷 哲也 ,  鎌田 悦雄 ,  福本 博文
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-096821
公開番号（公開出願番号）：特開平10-287865
出願日： 1997年04月15日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：

【要約】【課題】 ウェハー等の化学的機械研磨において、研磨表面のスクラッチ等の損傷を抑制し、優れた研磨表面を効率良く形成することができる研磨液組成物及び研磨方法を提供する。【解決手段】 平均粒径8μm以下で、10μm以上の粒子の割合が40%以下である微細セルロースを含有することを特徴とする研磨液組成物、及び該組成物を研磨液として使用することを特徴とする化学的機械研磨方法。

請求項（抜粋）：

平均粒径8μm以下で、10μm以上の粒子の割合が40%以下である微細セルロースを含有することを特徴とする研磨液組成物。

IPC (3件)：

C09K 3/14 550 ,  B24B 37/00 ,  H01L 21/304 321

FI (3件)：

C09K 3/14 550 C ,  B24B 37/00 H ,  H01L 21/304 321 P

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-163135
  
• 微細セルロース及びその製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-244967   出願人：旭化成工業株式会社