特許
J-GLOBAL ID：200903009538499318
液晶膜のパターニングによる光学素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉武 賢次 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-291251
公開番号（公開出願番号）：特開2003-195055
出願日： 2002年10月03日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 同一の基材上にて同一のパターンまたは異なるパターンで複数の液晶膜を精度良くかつ効率的にパターニングすることにより、光学特性に優れた光学素子を製造する。【解決手段】 配向膜12付きのガラス基板11上に放射線硬化型液晶を塗布して未硬化状態の第1コレステリック液晶膜13を形成する(図2(a))。次に、フォトマスク14を介して第1コレステリック液晶膜13の任意の部分に放射線20を選択的に照射し、第1コレステリック液晶膜13を部分的に硬化させた後(図2(b))、有機溶媒22に接触させて、未硬化部分13bを除去し(図2(c))、所望のパターンの第1コレステリック液晶膜13を形成する(図2(d))。同様の方法で、第2コレステリック液晶膜13′を形成し(図2(e))、放射線20の照射(図2(f))および有機溶媒22への接触(図2(g))の各工程を経て、未硬化部分13b′を除去する。
請求項（抜粋）：
配向能のある基材の表面に第1放射線硬化型液晶を塗布して未硬化状態の第1液晶膜を形成する第1工程と、前記第1液晶膜の任意の部分に放射線を選択的に照射し、前記第1液晶膜を部分的に硬化させる第2工程と、部分的に硬化された前記第1液晶膜を有機溶媒に接触させ、前記第1液晶膜のうち未硬化部分を除去して所定パターンの第1液晶膜を形成する第3工程と、未硬化部分の除去により残された前記第1液晶膜の表面を覆うよう第2放射線硬化型液晶を塗布して、所定パターンの第2液晶膜を形成する第4工程とを備え、前記第2工程において、前記第4工程において第2放射線硬化型液晶が塗布される前記第1液晶膜の表面の配向能を維持するよう、前記第1液晶膜のうち放射線が照射された部分を、前記第1放射線硬化型液晶が90%以上硬化した状態に硬化させることを特徴とする、光学素子の製造方法。
IPC (4件)：
G02B 5/30
, G02B 5/20
, G02B 5/20 101
, G02F 1/13 505
G02B 5/30
, G02B 5/20
, G02B 5/20 101
, G02F 1/13 505
2H048AA06
, 2H048AA12
, 2H048AA18
, 2H048BA45
, 2H048BA47
, 2H048BA64
, 2H048BB02
, 2H048BB42
, 2H049BA03
, 2H049BA05
, 2H049BA18
, 2H049BA42
, 2H049BA43
, 2H049BC05
, 2H049BC22
, 2H088EA47
, 2H088EA49
, 2H088GA03
, 2H088HA12
, 2H088HA18
