特許
J-GLOBAL ID：200903009542990891
ウエハー加熱装置及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-303289
公開番号（公開出願番号）：特開平5-013558
出願日： 1991年11月19日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：
【要約】【目的】 ウエハーの加熱処理時に、ウエハーの反り、歪み等によってウエハーとウエハー設置面との間に局所的に隙間が生ずるのを防止し、ウエハーの加熱処理時の歩留りを向上させることである。【構成】 セラミックス基体2の内部に抵抗発熱体3を埋設し、セラミックス基体2の一方の主面2a上に膜状電極5を形成し、この膜状電極5を覆うように、一方の主面2a側に、セラミックス誘電体層4を形成する。直流電源12によってウエハーWとセラミックス誘電体層4との間にクーロン力を発生させ、ウエハーWをウエハー吸着面6へと吸着し、抵抗発熱体3に通電してウエハー吸着面6から発熱させ、吸着されたウエハーWを加熱する。
請求項（抜粋）：
セラミックス基体;このセラミックス基体の内部に埋設された抵抗発熱体;前記セラミックス基体の一方の主面上に形成された膜状電極;及びこの膜状電極を覆うように前記一方の主面側に形成されたセラミックス誘電体層を有するウエハー加熱装置であって、前記セラミックス誘電体層のウエハー吸着面へと前記ウエハーを吸着し、かつ前記抵抗発熱体の発熱によりこのウエハーを加熱しうるように構成されたウエハー加熱装置。
IPC (4件)：
H01L 21/68
, H01L 21/205
, H01L 21/302
, H01L 21/324
