特許
J-GLOBAL ID：200903009567129090
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
吉田 茂明
, 吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-121397
公開番号（公開出願番号）：特開2004-327781
出願日： 2003年04月25日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：
【課題】オペレータの負担を増大させることなく、薬液を高精度に吐出することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】薬液による処理を行う基板処理装置に、薬液を吐出するノズル12、ノズル12に薬液を導く薬液配管13、ノズル12に薬液を送液するレジストポンプ14、薬液配管13を電動モータによって開閉する開閉バルブ15、薬液配管13内の圧力を検出する圧力センサ19、および制御部20を設ける。基板90に対して塗布処理を行っている間の圧力センサ19の出力(圧力波形)と、良好な処理結果が得られたときの圧力センサ19の出力(基準圧力波形)とを、制御部20が比較し、それらが一致するように制御パラメータを変更して、開閉バルブ15をフィードバック制御する。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
基板に薬液による処理を行う基板処理装置であって、
基板を保持する保持手段と、
前記保持手段に保持された基板に薬液を吐出するノズルと、
前記ノズルに前記薬液を導く薬液配管と、
前記薬液配管を介して前記ノズルに前記薬液を送液する送液手段と、
前記薬液配管内の圧力を検出する検出手段と、
電動モータによって遮断部材の状態を変更することにより、前記薬液配管の開閉状況を調整する開閉手段と、
基準となる圧力波形(基準圧力波形)を記憶する記憶手段と、
前記検出手段により検出された前記薬液配管内の圧力に基づいて、前記ノズルが前記薬液を吐出している間の前記薬液配管内の圧力波形を求める演算手段と、
前記記憶手段により記憶された前記基準圧力波形と、前記演算手段により求められた前記圧力波形とを比較する比較手段と、
前記比較手段による比較結果に応じて、前記薬液の送液状態を制御する送液制御手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L21/027
, B05C5/00
, B05C11/10
, G03F7/30
H01L21/30 564C
, B05C5/00 101
, B05C11/10
, G03F7/30 501
, H01L21/30 569F
2H096AA25
, 2H096AA28
, 2H096GA23
, 4F041AA05
, 4F041AB01
, 4F041BA34
, 4F042AA06
, 4F042BA06
, 4F042BA12
, 4F042CA09
, 4F042CB10
, 4F042EB09
, 4F042EB17
, 5F046JA01
, 5F046LA03
