特許

J-GLOBAL ID：200903009570284048

化学的気相成長成膜装置

発明者： 野浜 祥二
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 高橋 光男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-319594
公開番号（公開出願番号）：特開平11-154670
出願日： 1997年11月20日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：

【要約】【課題】 3枚以上のウエハに膜厚及び膜質が同じCVD膜を成膜するようにした化学的気相成長成膜装置を提供する。【解決手段】 本発明に係るLPCVD装置は、3枚以上のウエハをウエハ周縁部で平行かつ水平に保持して、搭載する縦型の石英ボート40と、石英ボート40を収容するプロセスチャンバと、原料ガスをプロセスチャンバの下部に導入するガス導入インジェクタ20とを備え、石英ボート40の下端から上端に向けプロセスチャンバ内で原料ガスを流して、化学的気相成長法によりCVD膜をウエハ面に成膜する縦型の化学的気相成長成膜装置である。石英ボート40は、ウエハ同士の間隔が石英ボート40の下端から上端にかけて段階的に大きくなるようにウエハを保持するようにされている。これにより、ウエハに供給される原料ガス分子の量を均一にすることができ、よって、石英ボート40に搭載されるウエハ同士の膜厚及び膜質の均一性を向上させることができる。

請求項（抜粋）：

3枚以上のウエハをウエハ周縁部で平行かつ水平に保持して、搭載する縦型の石英ボートと、石英ボートを収容するプロセスチャンバと、原料ガスをプロセスチャンバの下部に導入するガス導入インジェクタとを備え、石英ボートの下端から上端に向けプロセスチャンバ内で原料ガスを流して、化学的気相成長法によりCVD膜をウエハ面に成膜する縦型の化学的気相成長成膜装置において、石英ボートは、ウエハ同士の間隔が石英ボートの下端から上端にかけて段階的に大きくなるようにウエハを保持するようにしたことを特徴とする化学的気相成長成膜装置。

IPC (4件)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/44 ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/205

FI (4件)：

H01L 21/31 B ,  C23C 16/44 D ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/205